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排膠燒結(jié)一體爐的應用于蒸發(fā)膜料靶材陶瓷基板

作者: 發(fā)布時間:2023-06-21 瀏覽次數(shù):1055
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高溫排膠燒結(jié)爐的應用于蒸發(fā)膜料,濺射靶材,陶瓷基板(氮化鋁氧化鋁)、玻璃金屬燒結(jié)外殼電鍍陶瓷基板、DBC直接鍵合陶瓷基板、AMB活性金屬焊接陶瓷基板、HTCC高溫共燒陶瓷等。從基板材料角度來看,主要有氧化鋁,氮化鋁,氮化硅,氧化鈹?shù)?;其焊接材料,電子漿料種類眾多,工藝復雜;陶瓷基板及其覆銅板對生產(chǎn)工藝精度要求極其嚴格,部分關鍵材料技術門檻高。受益于下游強勢增長需求拉動,陶瓷基板及其封裝市場將迎來大爆發(fā)。目前已在半導體照明、激光、光通信、航空航天、汽車電子等領域得到廣泛應用。

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